簡要描述：納米分散機具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。高剪切分散分散機由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
產(chǎn)品型號： CRS2000
所屬分類：納米分散機
更新時間：2026-04-02
正常國產(chǎn)分散機的轉(zhuǎn)速為3000rpm，而我們CIK通過底座下面的皮帶輪對設(shè)備進行了1:3的增速，使速度zui高可達9000rpm，正常的國產(chǎn)分散機定轉(zhuǎn)子一般是304不銹鋼的，而我們CIK常規(guī)設(shè)備采用了316L不銹鋼的，如果客戶物料有特殊要求我們可以提供碳化鎢鈷、氧化鋯、陶瓷、哈氏合金等材料加工成的定轉(zhuǎn)子，以確保達到客戶的使用要求。
納米管線式三級高剪切分散機：CIK納米管線式三級高剪切分散機的核心部件是定子／轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應(yīng)帶來強勁的動能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械剪 切、液力剪切、離心擠壓、液層磨擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝的條件下，瞬問均勻精細地分散，經(jīng)過高頻的循環(huán) 往復，zui終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。與三輥機、球磨機、砂磨機相比，高剪切分散機具有效率高、能耗低等顯著優(yōu)點，是分散工藝的*。
納米分散機的工作特點：
CR2000系列納米管線式三級高剪切分散分散機具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。高剪切分散分散機由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
納米分散機的影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點
1 分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) =
v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 CIK 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
超高速分散均質(zhì)乳化機的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。
本機是一種集分散、混合為一體的多功能高效設(shè)備，適用于聚合物鋰離子電池液及液態(tài)鋰離子電池液、電子電極漿料、粘合劑、模具膠、硅酮密封劑、聚氨酯密封 劑、厭氧膠、油漆、油墨、顏料、化妝品、藥膏等電子、化工、食品、制藥、建材、農(nóng)藥行業(yè)的液與液、固與液物料的混合、反應(yīng)、分散、溶解、均質(zhì)、乳化等工 藝。
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