石墨烯陶瓷分散設備，石墨烯陶瓷膠體磨 ,德國CIK 石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機是過陶瓷膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到*的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。
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石墨烯（Graphene）是一種二維碳材料，是單層石墨烯、雙層石墨烯和少層石墨烯的統稱。石墨烯一直被認為是假設性的結構，無法單獨穩定存在，直至2004年，英國曼徹斯特大學物理學家安德烈·海姆(Andre Geim)和康斯坦丁·諾沃肖洛夫(Konstantin Novoselov)，成功地在實驗中從石墨中分離出石墨烯，而證實它可以單獨存在，兩人也因“在二維石墨烯材料的開創性實驗"，共同獲得2010年諾貝爾物理學獎。并且，石墨烯在自然界也有產出，它體現為高能物理狀態下的圈量子的粒子態相。
當前石墨烯產業化存在五大難點：石墨烯制備成本較高，良品率有待提升；主流制備方法各有優劣，工藝不穩定，技術有待改善；前期研發投入資金需求量大；下游需求方向尚不十分明確，需求藍海難估；產業鏈延伸需要各環節配套，與下游需求對接尚待時日。
德國CIK 石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機的分散效果
影響分散乳化結果的因素有以下幾點
1 分散頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次好）
2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 分散頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
5 循環次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
CIK 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據一些行業特殊要求，新浪輕工公司在CRS2000系列的基礎上又開發出CRX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm，轉子的速度可以達到66m/s
陶瓷分散設備的參數
陶瓷膠體磨 | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/輸出連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
NKCD 2000/4 | 50 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NKCD 2000/5 | 200 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NKCD 2000/10 | 500 | 4,200 | 23 | 22 | DN50/DN50 |
NKCD 2000/20 | 1500 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NKCD 2000/30 | 3000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NKCD 2000/50 | 6000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%。 | |||||
1 表中上限處理量是指介質為“水"的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產品的要求。
石墨烯陶瓷分散設備，石墨烯溶液
信息來源于：www.ciksh。。ｃｏｍ
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